亀山 晃弘 (カメヤマ アキヒロ)

KAMEYAMA Akihiro

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所属

工学教育研究部 工学科応用物理工学プログラム担当

職名

助教

外部リンク

学位 【 表示 / 非表示

  • 博士(工学) ( 2003年9月   大阪大学 )

研究分野 【 表示 / 非表示

  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 通信工学

  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電子デバイス、電子機器

  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電気電子材料工学

  • その他 / その他  / 応用光学・量子光工学

 

論文 【 表示 / 非表示

  • ファイバーブラック回折格子(FBG)センサーの高性能化

    亀山晃弘、甲藤正人、横谷篤至

    レーザー学会第555回研究会報告フォトニクスワークショップ in 九州   ( RTM-21-17 )   7 - 11   2021年9月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(研究会,シンポジウム資料等)  

  • PLD 法によって付着させた Si(111)- 清浄表面上の金原子の STM 観察

    高田大河、田芳 樹、永崎誠人、亀山晃弘、甲藤正人、横谷篤至

    宮崎大学工学部紀要   50   51 - 54   2021年9月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(大学,研究機関等紀要)  

  • 真空紫外・極端紫外光を用いた光脱離質量分析装置の開発 招待あり 査読あり

    横谷 篤至,亀山 晃弘,加来 昌典,甲藤 正人

    レーザー加工学会誌   27 ( 3 )   19 - 26   2020年10月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • フェムト秒レーザーのダブルパルス照射によるシリコン加工の初期過程

    甲藤正人、高田大河、亀山晃弘、横谷篤至

    レーザー学会第537回研究会報告「次世代レーザー加工」   RTM-19-29〜34   25 - 30   2019年11月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • 真空紫外光を用いたマテリアルプロセッシング

    亀山晃弘、高田大河、甲藤正人、横谷篤至

    レーザー学会第536回研究会報告(フォトニクスワークショップin 九州)   RTM-19   37 - 42   2019年9月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(研究会,シンポジウム資料等)  

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書籍等出版物 【 表示 / 非表示

  • 熱ポーリング石英ガラスにおける第2次非線形光学性に関する研究

    亀山 晃弘( 担当: 単著 ,  範囲: 全般)

    大阪大学工学部博士学位論文  2003年9月 

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    記述言語:日本語

講演・口頭発表等 【 表示 / 非表示

  • ファイバーブラック回折格子 (FBG) センサーの高精度化

    亀山 晃弘,甲藤 正人,横谷 篤至

    レーザー学会第555回研究会 「フォトニクス・ワークショップ in 九州  2021年9月6日 

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    開催年月日: 2021年9月6日

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  • 短波長光源の開発と表面プロセスへの応用

    甲藤正人、加来昌典、横谷篤至、亀山晃弘、佐々木亘

    先進機能性表面・構造を創出するレーザー表層加工」研究集会  2021年2月22日 

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    開催年月日: 2021年2月22日

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  • レーザープロセッシングによる光学式センサーの高精度化技術の開発

    亀山晃弘、加来昌典、甲藤正人、横谷篤至

    レーザー学会第523回研究会報告レーザー応用  (熊本県阿蘇郡南阿蘇村 ホテルグリーンピア南阿蘇)  レーザー学会

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    開催年月日: 2018年9月3日

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:熊本県阿蘇郡南阿蘇村 ホテルグリーンピア南阿蘇  

    We have developed the fabrication technique of high precision optical sensor by laser processing. In order to know growth process of atomic-level Au thin films, we have observed Au particles deposited by the pulsed laser deposition (PLD) method on Si clean surface by a scanning tunneling microscope (STM). As a result, the film-shaped clusters were found to have a structure of nearly monoatomic layers. We also demonstrated that a simple technique combining a 266 nm laser and a phase mask was quite effective at fabricating Fabry-Perot (FP) interferometer based on FBG and the fiber end-face. The interference pattern of the FP interferometer became sharper than that of one FBG.

  • Fabrication of Silver nanoparticles by Laser Ablation in Water

    Htet Su Wai, Masahito Katto, A. Kameyama, Masanori Kaku, and Atsuhi Yokotani

    レーザ加工学会第89回講演会  (大阪大学吹田キャンパス(大阪府吹田市))  レーザ加工学会

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    開催年月日: 2018年5月23日 - 2018年5月24日

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:大阪大学吹田キャンパス(大阪府吹田市)  

  • 紫外レーザーを用いた高性能FBGセンサーの作製

    亀山晃弘、加来昌典、甲藤正人、横谷篤至

    第12回真空紫外光源およびレーザーアブレーションに関するワークショップ  (宮崎市宮崎県婦人会館)  防衛大学校 大越昌幸

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    開催年月日: 2018年3月26日

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:宮崎市宮崎県婦人会館  

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受賞 【 表示 / 非表示

  • 宮崎日々新聞賞科学賞

    2007年10月   宮崎日々新聞社  

    宮崎大学光科学研究グループ

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    受賞区分:出版社・新聞社・財団等の賞  受賞国:日本国

科研費(文科省・学振・厚労省)獲得実績 【 表示 / 非表示

  • フォトニック光ファイバーを用いた歪みセンサーの開発

    2006年04月 - 2009年03月

    科学研究費補助金  若手研究(A)

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    担当区分:研究代表者 

    フォトニック光ファイバーを用いて高性能な歪みセンサーを開発することを目的とする。

  • 真空紫外光CVDによる次世代積層型システムLSI作製用要素プロセス技術の開発

    2003年04月 - 2006年03月

    科学研究費補助金  基盤研究(B)

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    担当区分:研究代表者 

    次世代積層型システムLSIを作製する為の要素プロセス技術を室温で作成できる、真空紫外光CVD技術を開発した。

  • 2次非線形光学性を持つ電界分極石英ガラスファイバーを用いたWDM用光学素子の開発

    2001年04月 - 2003年03月

    科学研究費補助金  奨励研究A

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    担当区分:研究代表者 

    2次非線形光学性を持つ電界分極石英ガラスファイバーを用いてWDM(波長多重通信)用の光学素子を開発すること。

  • 熱ポーリング石英薄膜道波路を用いた光ディスクDVD光源用SHGレーザの開発

    1999年04月 - 2002年03月

    科学研究費補助金  基盤研究(C)

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    担当区分:研究分担者 

    熱ポーリング石英薄膜道波路を用いて光ディスクDVD光源用の青色~紫色レーザを開発する。

  • 2次非線形光学性を有する電界分極石英ガラスを用いたDVD光源用SHGレーザの開発

    1998年04月 - 2000年03月

    科学研究費補助金  奨励研究A

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    担当区分:研究代表者 

    2次非線形光学性を有する電界分極石英ガラスを用いてDVD光源用の青色レーザーを開発する。

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その他競争的資金獲得実績 【 表示 / 非表示

  • 極端紫外光を用いた光脱離質量分析装置の応用と実用機開発

    2008年07月 - 2009年03月

    経済産業省  地域イノベーション創出研究開発事業 

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    担当区分:研究分担者  資金種別:競争的資金

    本研究の目的は、商品レベルの光脱離質量分析装置」の設計・製作技術を確立することと、その応用を目指すことである。

  • 極端紫外光を用いた光脱離質量分析装置の開発

    2007年07月 - 2008年03月

    経済産業省  地域イノベーション創出研究開発事業 

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    担当区分:研究分担者  資金種別:競争的資金

    本研究の目的は、商品レベルの「卓上型光脱離質量分析装置」の設計・製作技術を確立することである。昨年度コンソーシアム研究開発で、光脱離質量分析装置の実験機が完成し、光脱離の基本的なデータが取れるようになった。この実験機を用いて、種々の試料を測定しながら、問題点、改良点を抽出し、解決策を見出す。

その他研究活動 【 表示 / 非表示

  • 次世代産業用レーザー専門委員会

    2019年04月 - 2021年03月

  • 次世代産業用レーザー専門委員会

    2016年04月 - 2019年03月

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    産業応用が期待できるレーザー光源の開発を目指して、情報発信を行っている

  • 次世代産業用レーザー専門委員会

    2014年04月 - 2016年03月

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    次世代産業に応用が期待されている新型レーザーの開発状況の調査

  • 次世代産業用レーザー専門委員会

    2012年04月 - 2014年03月

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    次世代に産業用に応用される高出力・高性能レーザーの開発を行うための準備・啓蒙活動を行っている。

  • 次世代産業用レーザー専門委員会

    2010年04月 - 2012年03月

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    次世代産業に利用できるレーザーの調査及び開発を目的として専門委員会が活動している。

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授業 【 表示 / 非表示

  • 専門教育入門セミナーT(3)

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    科目区分:専門教育科目 

  • 光量子工学特論

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    科目区分:大学院科目(修士) 

  • 電子物理工学セミナー

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    科目区分:専門教育科目 

  • 電子物理工学実験II

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    科目区分:専門教育科目 

  • 電子物理工学実験I

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    科目区分:専門教育科目 

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