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所属 |
工学教育研究部 工学科半導体サイエンスプログラム担当 |
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職名 |
助教 |
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外部リンク |
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研究分野 【 表示 ／ 非表示 】
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ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 通信工学
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ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 電気電子材料工学
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その他 / その他 / 応用光学・量子光工学
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ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 電子デバイス、電子機器
論文 【 表示 ／ 非表示 】
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ファイバー型ファブリーペロー干渉計を用いた屈折率センサーの開発
亀山晃弘、榎田海渡、甲藤正人、横谷篤至
レーザー学会第588回研究会報告 ( 24 ) 7 - 12 2024年9月
担当区分：筆頭著者, 責任著者 記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（研究会，シンポジウム資料等）
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エキシマランプによる光学薄膜用オーバーコート技術の開発
村上拓海、甲藤正人、亀山晃弘、甲藤正人、横谷篤至、吉田國雄
レーザー学会第578回研究会報告 ( 23 ) 1 - 5 2023年9月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（研究会，シンポジウム資料等）
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田中 芳樹, 中井 健太, 奥村 勇之介, 亀山 晃弘, 甲藤 正人, 横谷 篤至
宮崎大学工学部紀要 51 29 - 33 2022年11月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：宮崎大学工学部
Vacuum ultraviolet (VUV) with a wavelength of 100-200 nm has a photon energy of about 6-12 eV, which is higher than the binding energy of many substances, and has the feature of being able to break chemical bonds. We have applied these features to develop an analyzer named the Photon-stimulated Desorption Spectrometer. Since the spatial and temporal resolutions of this system are low due to adaption of incoherent light source, it is expected to improve by replacing the light source with an ultrashort pulsed VUV laser. In the present study, we have developed a focusing and irradiating system that enables various laser irradiation modes by overlapping multiple beams spatially and temporally. High-precision position control of the focusing and irradiating system is necessary for this purpose. Here, we used a number of micrometers with encoder that can be computercontrolled with a resolution of 1 μm to develop a double beam focusing and irradiating system using currently available ultrashort pulsed lasers with wavelengths of 800 nm and 400 nm. As a results, we confirmed that the smaller spot diameter was obtained by using the shorter wavelength. The spatial superposition can be performed within an accuracy range of ±3 μm, and the temporal superposition can be performed with an accuracy of 33 fs. Besides, interference fringes were obtained by angled irradiation of two light beams which can be expected to induce desorption in finer areas.
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高性能光ファイバーセンサーの開発
亀山晃弘、甲藤正人、横谷篤至
レーザー学会第567回研究会報告 RTM-22 ( 31 ) 29 - 33 2022年9月
担当区分：筆頭著者 記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（研究会，シンポジウム資料等）
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レーザー脱離分析装置用集光照射部の開発
田中芳樹、中井健太、奥村勇之介、亀山晃弘、甲藤正人、横谷篤至
宮崎大学紀要 ( 50 ) 51 - 54 2022年5月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（大学，研究機関等紀要）
書籍等出版物 【 表示 ／ 非表示 】
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熱ポーリング石英ガラスにおける第2次非線形光学性に関する研究
亀山 晃弘（ 担当： 単著 , 範囲: 全般）
大阪大学工学部博士学位論文 2003年9月
記述言語：日本語
講演・口頭発表等 【 表示 ／ 非表示 】
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ファイバー型ファブリーペロー干渉計を用いた屈折率センサーの開発
亀山晃弘、榎田海渡、甲藤正人、横谷篤至
レーザー学会第588回研究会 2024年9月2日
開催年月日： 2024年9月2日
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
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エキシマランプによる光学薄膜用オーバーコート技術の開発
村上拓海、甲藤正人、亀山晃弘、甲藤正人、横谷篤至、吉田國雄
レーザー学会学術講演会第44回年次大会 2024年1月18日
開催年月日： 2024年1月18日
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
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エキシマランプによる光学薄膜用オーバーコート技術の開発
村上拓海、甲藤正人、亀山晃弘、甲藤正人、横谷篤至、吉田國雄
レーザー学会第578回研究会 2023年9月11日
開催年月日： 2023年9月11日
会議種別：口頭発表（一般）
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高性能光ファイバーセンサーの開発
亀山晃弘、甲藤正人、横谷篤至
レーザー学会第567回研究会報告 2022年9月4日
開催年月日： 2022年9月4日
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
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ファイバーブラック回折格子 (FBG) センサーの高精度化
亀山 晃弘，甲藤 正人，横谷 篤至
レーザー学会第555回研究会 「フォトニクス・ワークショップ in 九州 2021年9月6日
開催年月日： 2021年9月6日
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
科研費（文科省・学振・厚労省）獲得実績 【 表示 ／ 非表示 】
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フォトニック光ファイバーを用いた歪みセンサーの開発
研究課題/領域番号：18686035 2006年04月 - 2009年03月
科学研究費補助金 若手研究(A)
担当区分：研究代表者
フォトニック光ファイバーを用いて高性能な歪みセンサーを開発することを目的とする。
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真空紫外光ＣＶＤによる次世代積層型システムＬＳＩ作製用要素プロセス技術の開発
研究課題/領域番号：15360194 2003年04月 - 2006年03月
科学研究費補助金 基盤研究(B)
担当区分：研究代表者
次世代積層型システムLSIを作製する為の要素プロセス技術を室温で作成できる、真空紫外光CVD技術を開発した。
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２次非線形光学性を持つ電界分極石英ガラスファイバーを用いたＷＤＭ用光学素子の開発
研究課題/領域番号：10750250 2001年04月 - 2003年03月
科学研究費補助金 奨励研究(A)
担当区分：研究代表者
２次非線形光学性を持つ電界分極石英ガラスファイバーを用いてＷＤＭ(波長多重通信）用の光学素子を開発すること。
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熱ポーリング石英薄膜道波路を用いた光ディスクＤＶＤ光源用ＳＨＧレーザの開発
研究課題/領域番号：11650352 1999年04月 - 2002年03月
科学研究費補助金 基盤研究(C)
担当区分：研究分担者
熱ポーリング石英薄膜道波路を用いて光ディスクＤＶＤ光源用の青色～紫色レーザを開発する。
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２次非線形光学性を有する電界分極石英ガラスを用いたＤＶＤ光源用ＳＨＧレーザの開発
研究課題/領域番号：10750250 1998年04月 - 2000年03月
科学研究費補助金 奨励研究(A)
担当区分：研究代表者
２次非線形光学性を有する電界分極石英ガラスを用いてＤＶＤ光源用の青色レーザーを開発する。
その他競争的資金獲得実績 【 表示 ／ 非表示 】
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極端紫外光を用いた光脱離質量分析装置の応用と実用機開発
2008年07月 - 2009年03月
経済産業省 地域イノベーション創出研究開発事業
担当区分：研究分担者 資金種別：競争的資金
本研究の目的は、商品レベルの光脱離質量分析装置」の設計・製作技術を確立することと、その応用を目指すことである。
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極端紫外光を用いた光脱離質量分析装置の開発
2007年07月 - 2008年03月
経済産業省 地域イノベーション創出研究開発事業
担当区分：研究分担者 資金種別：競争的資金
本研究の目的は、商品レベルの「卓上型光脱離質量分析装置」の設計・製作技術を確立することである。昨年度コンソーシアム研究開発で、光脱離質量分析装置の実験機が完成し、光脱離の基本的なデータが取れるようになった。この実験機を用いて、種々の試料を測定しながら、問題点、改良点を抽出し、解決策を見出す。
その他研究活動 【 表示 ／ 非表示 】
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次世代産業用レーザー専門委員会
2019年04月 - 2021年03月
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次世代産業用レーザー専門委員会
2016年04月 - 2019年03月
産業応用が期待できるレーザー光源の開発を目指して、情報発信を行っている
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次世代産業用レーザー専門委員会
2014年04月 - 2016年03月
次世代産業に応用が期待されている新型レーザーの開発状況の調査
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次世代産業用レーザー専門委員会
2012年04月 - 2014年03月
次世代に産業用に応用される高出力・高性能レーザーの開発を行うための準備・啓蒙活動を行っている。
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次世代産業用レーザー専門委員会
2010年04月 - 2012年03月
次世代産業に利用できるレーザーの調査及び開発を目的として専門委員会が活動している。
研究・技術シーズ 【 表示 ／ 非表示 】
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フォトニック光ファイバーを用いたバイオセンサーの開発
フォトニック光ファイバーを用いた防災センサーの開発
石英ガラス、石英系材料の光高機能化技術相談に応じられる関連分野：光ファイバーを用いた計測技術
石英ガラスの高機能化メッセージ：上記の研究テーマに限らず、気軽に相談して下さい。
授業 【 表示 ／ 非表示 】
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光量子工学特論
科目区分：大学院科目（修士）
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電子物理工学セミナー
科目区分：専門教育科目
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電磁気学II（過年度生用）
科目区分：専門教育科目
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応用物理工学実験II
科目区分：専門教育科目
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電磁気学II（物理Ｐ）
科目区分：専門教育科目