KATTO Masahito

写真a

Affiliation

Organization for Promotion of Research and Industry-Academic Regional Collaboration Section for industrial-academic complex

Title

Associate Professor

External Link

Degree 【 display / non-display

  • 博士(工学) ( 1994.3   大阪府立大学 )

  • 工学修士 ( 1991.3   大阪府立大学 )

  • 工学士 ( 1989.3   大阪府立大学 )

Research Areas 【 display / non-display

  • Natural Science / Semiconductors, optical properties of condensed matter and atomic physics

  • Manufacturing Technology (Mechanical Engineering, Electrical and Electronic Engineering, Chemical Engineering) / Electric and electronic materials

  • Nanotechnology/Materials / Optical engineering and photon science

 

Papers 【 display / non-display

  • 高性能光ファイバーセンサーの開発

    亀山晃弘,甲藤正人,横谷篤至

    レーザー学会第555回研究会報告 「フォトニクス・ワークショップ in 九州」   ( No. RTM-22-26〜31 )   29 - 33   2022.9

     More details

    Language:Japanese   Publishing type:Research paper (conference, symposium, etc.)  

  • ファイバーブラック回折格子 (FBG) センサーの高精度化

    亀山晃弘,甲藤正人,横谷篤至

    レーザー学会第555回研究会報告 「フォトニクス・ワークショップ in 九州」   ( No. RTM-21 )   7 - 11   2021.9

     More details

    Language:Japanese   Publishing type:Research paper (conference, symposium, etc.)  

  • 真空紫外・極端紫外光を用いた光脱離質量分析装置の開発 Invited Reviewed

    横谷篤至, 亀山晃弘, 加来昌典, 甲藤正人

    レーザ加工学会誌   27 ( 3 )   131 - 136   2020.10

     More details

    Language:Japanese   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • フェムト秒レーザーによるSi表面の相変化

    甲藤正人,横谷篤至,加来昌典,大久保友雅,塚本雅裕

    レーザー学会第546回研究会報告「フォトニクス・ワークショップ in 九州」   ( No. RTM-20-06〜11 )   1 - 6   2020.9

     More details

    Language:Japanese   Publishing type:Research paper (conference, symposium, etc.)  

  • ダブルパルス照射フェムト秒レーザープロセッシングにおける素過程の考察

    甲藤 正人

    天田財団助成研究成果報告書   33 ( 0 )   293   2020

     More details

    Language:Japanese   Publishing type:Research paper (scientific journal)   Publisher:公益財団法人 天田財団  

    DOI: 10.32163/amadareport.33.0_293

    CiNii Research

display all >>

Books 【 display / non-display

  • レーザものづくり入門-基礎から装置導入まで-

    レーザプラットフォーム協議会( Role: Joint author ,  第一章1,2、第二章4,5)

    産報出版  2010.1 

     More details

    Language:Japanese Book type:Scholarly book

MISC 【 display / non-display

  • Vacuum UV applications for nanoscale processing(共著)

    Masahito Katto and Atushi Yokotani

    SPIE Newsroom   2010.2

     More details

    Language:English   Publishing type:Article, review, commentary, editorial, etc. (scientific journal)   Publisher:SPIE  

    DOI: 10.1117/2.1201001.002554

  • 真空紫外光による環境調和型光プロセス-光を創る、光で創る

    甲藤正人、亀山晃弘、加来昌典、窪寺昌一、横谷篤至

    工業材料   58 ( 1 )   40 - 41   2009.12

     More details

    Language:Japanese   Publishing type:Article, review, commentary, editorial, etc. (trade magazine, newspaper, online media)   Publisher:日刊工業新聞社  

  • Report on ICALEO 2008 Invited

    TSUKAMOTO Masahiro, KATTO Masahito

    37 ( 3 )   206 - 207   2009.3

     More details

    Language:Japanese   Publishing type:Article, review, commentary, editorial, etc. (scientific journal)  

  • Report on ICALEO 2007 Invited

    TSUKAMOTO Masahiro, KATTO Masahito

    The Review of laser engineering   36 ( 2 )   93 - 95   2008.2

     More details

    Language:Japanese   Publishing type:Article, review, commentary, editorial, etc. (scientific journal)  

  • 真空紫外光で拓く環境調和型プロセス—真空紫外領域における光源の開発とその応用技術の開発—(共著)

    甲藤正人、窪寺昌一、横谷篤至

    ケミカルエンジニアリング   52 ( 1 )   66 - 71   2007.1

     More details

    Language:Japanese   Publishing type:Article, review, commentary, editorial, etc. (trade magazine, newspaper, online media)   Publisher:化学工業社  

display all >>

Presentations 【 display / non-display

  • Early stage of Si surface processing by femto-second Ti:sapphire laser pulses International conference

    Masahito Katto, Masanori Kaku, Masahiro Tsukamoto, Yuji Sato and Atsushi Yokotani

    International Photonics Conference 2022, The 4th Smart Laser Processing Conference 2022 (SLPC2022)  2022.4 

     More details

    Event date: 2022.4.19 - 2022.4.21

    Language:English   Presentation type:Poster presentation  

  • 深紫外LED照射によるPETの表面改質

    山本大貴、髙橋航太、東田祥和、宇田祐貴、加来昌典、甲藤正人、植野琴美、牧野由、森永高広、森隆博

    レーザー学会学術講演会第42回年次大会  (東京)  2022.1  レーザー学会

     More details

    Event date: 2022.1.12 - 2022.1.14

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation (general)  

    Venue:東京  

  • ファイバーブラック回折格子 (FBG) センサーの高精度化

    亀山 晃弘,甲藤 正人,横谷 篤至

    レーザー学会第555回研究会 「フォトニクス・ワークショップ in 九州」  (札幌市)  2021.9.6  レーザー学会

     More details

    Event date: 2021.9.6

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation (general)  

    Venue:札幌市  

  • 高性能光ファイバーセンサーの開発

    亀山 晃弘,甲藤 正人,横谷 篤至

    レーザー学会第567回研究会 「フォトニクス・ワークショップ in 九州」  (札幌市)  2021.9.5  レーザー学会

     More details

    Event date: 2021.9.5

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation (general)  

    Venue:札幌市  

  • 短波長光源の開発と表面プロセスへの応用

    甲藤正人、加来昌典、横谷篤至、亀山晃弘、佐々木亘

    「先進機能性表面・構造を創出するレーザー表層加工」研究集会  2021.2.22 

     More details

    Event date: 2021.2.22

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation (general)  

display all >>

Awards 【 display / non-display

  • 宮崎日日新聞賞科学賞

    2007.10   宮崎日日新聞社  

    宮崎大学光科学研究グループ

     More details

    Award type:Award from publisher, newspaper, foundation, etc.  Country:Japan

Grant-in-Aid for Scientific Research 【 display / non-display

  • 生体親和性材料開発に関する研究

    2001.04 - 2004.03

    科学研究費補助金  基盤研究(B)

      More details

    生体親和性材料開発に関する研究

  • 希ガスエキシマランプを用いた光量子洗浄装置の開発

    2001.04 - 2004.03

    科学研究費補助金  基盤研究(B)

      More details

    希ガスエキシマランプを用いた光量子洗浄装置の開発

  • 輝尽性蛍光体の紫外からの可視域光強度記録への応用

    1995.04 - 1996.03

    科学研究費補助金  奨励研究(A)

      More details

    本研究においては、イメ-ジングプレ-トの可視から紫外領域での記録特性を評価することを目的とし、以下の項目を実施した。
    1.輝尽発光の二次元読み取り装置の設計製作
    ステッピングモ-タ-駆動二次元走査ステ-ジおよびモ-タ-ドライブ回路、ならびに絶縁I/Oインタ-フェイスを設計・製作した。これにより、パ-ソナルコンピュ-タ-制御の二次元読み取り装置が完成した。
    2.単色光源の設計・製作
    波長200nm前後の出力光が得られるように、重水素ランプとモノクロメ-タを用いた単色光源を製作した。この光源により波長200nmから400nmの範囲で、スペクトル幅1nm程度の出力光が得られた。また、出力光を一定時間だけ照射することが可能なように、コンピュ-タ-制御の電磁シャッタ-コントロ -ラ-を設計・製作した。これにより10msec程度の精度で照射時間を制御することが可能となった。
    3.分解能テストタ-ゲットの製作
    分解能を評価する際には、テストタ-ゲットを透過した強度分布パタ-ンを記録し、再生する方法を用いることとした。波長200nm付近の紫外領域においてはこの領域の光を透過させる基板、例えば合成石英基板上にパタ-ンが描画されているものが必要となるが、このような仕様のものは市販されていない。したがって、フォトリソグラフィ・プロセスにより、合成石英基板上にアルミニウムのパタ-ンを作成することとした。市販のテストタ-ゲットをマスタ-のマスクとして用い、プロセスの条件を最適にしてやることで、線幅5mmのアルミニウムパタ-ンを合成石英基板上に転写することができた。

Other research activities 【 display / non-display

  • 財団法人レーザー技術総合研究所共同研究員

    2022.04 - 2023.03

  • 大阪大学接合科学研究所共同研究員

    2022.04 - 2023.03

  • 財団法人レーザー技術総合研究所共同研究員

    2021.04 - 2022.03

  • 大阪大学接合科学研究所共同研究員

    2021.04 - 2022.03