論文 - 甲藤 正人
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ファイバー型ファブリペロー干渉計を用いた屈折率センサー
榎田海渡，増原陸，宮戸悠樹，亀山晃弘，甲藤 正人，横谷篤至
レーザー学会第601回研究会「フォトニクス・ワークショップ in 九州 ～宮崎～」 RTM-24-19〜24 17 - 22 2025年10月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（研究会，シンポジウム資料等）
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甲藤 正人
天田財団助成研究成果報告書 38 ( 0 ) 295 2025年
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宮崎大学における共同研究の相手先の地理的分布 査読あり
西片 奈保子, 竹下 哲史, 川崎 一正, 秋丸 國廣, 甲藤 正人, 淡野 公一, 北村 寿宏
産学連携学 21 ( 1 ) 1_29 - 1_44 2024年12月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：特定非営利活動法人 産学連携学会
宮崎大学の共同研究の状況について，2009～2018（平成21～30）年度の契約データに基づき，相手先やその地域性，研究費受入額などの分析を行った結果，以下のことが明らかになった．①宮崎大学の共同研究の件数における相手先の割合は，大企業が約49％，中小企業が約36％，企業以外が約15％であり，大企業の割合が最も高くなっている．②大企業を相手先とする共同研究の件数は，関東，近畿，東海，九州・沖縄，中国の各地方，宮崎県の順に多い．関東地方や宮崎県では概ね横ばい傾向であるが，東海，近畿，九州・沖縄の各地方では2014～15年度頃から増加に転じているとみられる．③中小企業を相手先とする共同研究の件数は，宮崎県，関東地方，近畿地方，九州・沖縄地方の順に多い．宮崎県や関東，近畿，中国，九州・沖縄の各地方で共同研究が増加している傾向がみられる．④企業との共同研究における研究費受入額は，金額が多い順に，関東地方，近畿地方，東海地方，宮崎県，九州・沖縄地方である．東海地方，九州・沖縄地方，および，宮崎県の企業との共同研究において，一件当たりの研究費受入額が増加している傾向がみられ，徐々に大型化が進んでいることが推察される．⑤企業以外の機関を相手先とする共同研究の件数は，宮崎大学が位置する宮崎県内の機関，および，関東地方に位置する機関との共同研究が多い．
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深紫外LED光を用いた有機材料表面の親水化
加来昌典，甲藤正人，植野琴美，牧野由，森本崇，森永高広，森隆博
レーザー学会第591回研究会報告「有機コヒーレントフォトニクス」 No. RTM-24-40 23 - 27 2024年11月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（研究会，シンポジウム資料等）
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ファイバー型ファブリペロー干渉計を用いた屈折率センサーの開発
亀山晃弘、榎田海斗、甲藤正人、横谷篤至
レーザー学会第588回研究会報告「フォトニクス・ワークショップin九州～長崎～」 RTM-24-19〜24 7 - 12 2024年9月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（研究会，シンポジウム資料等）
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深紫外LED光を用いた有機材料の表面改質
加来昌典，甲藤正人，植野琴美，牧野由，森本崇，森永高広，森隆博
レーザー学会第588回研究会報告「フォトニクス・ワークショップin九州～長崎～」 RTM-24-19〜24 13 - 18 2024年9月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（研究会，シンポジウム資料等）
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エキシマランプを用いた光学薄膜用オーバーコート技術の開発
村上拓海，甲藤正人，亀山晃弘，横谷篤至，吉田国雄
レーザー学会第578回研究会報告 「フォトニクス・ワークショップ in 九州」 ( No. RTM-23-21〜26 ) 1 - 4 2023年9月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（研究会，シンポジウム資料等）
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Initial stage of Si processing using single pulse of NIR fs-laser
Masahito Katto, Masanori Kaku, Yuji Sato, Masahiro Tsukamoto, Atushi Yokotani
Proceedings of LPM2023 ( #23-065 ) 2023年8月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
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田中 芳樹, 中井 健太, 奥村 勇之介, 亀山 晃弘, 甲藤 正人, 横谷 篤至
宮崎大学工学部紀要 51 29 - 33 2022年11月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：宮崎大学工学部
Vacuum ultraviolet (VUV) with a wavelength of 100-200 nm has a photon energy of about 6-12 eV, which is higher than the binding energy of many substances, and has the feature of being able to break chemical bonds. We have applied these features to develop an analyzer named the Photon-stimulated Desorption Spectrometer. Since the spatial and temporal resolutions of this system are low due to adaption of incoherent light source, it is expected to improve by replacing the light source with an ultrashort pulsed VUV laser. In the present study, we have developed a focusing and irradiating system that enables various laser irradiation modes by overlapping multiple beams spatially and temporally. High-precision position control of the focusing and irradiating system is necessary for this purpose. Here, we used a number of micrometers with encoder that can be computercontrolled with a resolution of 1 μm to develop a double beam focusing and irradiating system using currently available ultrashort pulsed lasers with wavelengths of 800 nm and 400 nm. As a results, we confirmed that the smaller spot diameter was obtained by using the shorter wavelength. The spatial superposition can be performed within an accuracy range of ±3 μm, and the temporal superposition can be performed with an accuracy of 33 fs. Besides, interference fringes were obtained by angled irradiation of two light beams which can be expected to induce desorption in finer areas.
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高性能光ファイバーセンサーの開発
亀山晃弘，甲藤正人，横谷篤至
レーザー学会第555回研究会報告 「フォトニクス・ワークショップ in 九州」 ( No. RTM-22-26〜31 ) 29 - 33 2022年9月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（研究会，シンポジウム資料等）
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PLD法によって付着させたSi(111)-清浄表面上の金原子のSTM観察 査読あり
高田 大河, 田中 芳樹, 永崎 誠人, 亀山 晃弘, 甲藤 正人, 横谷 篤至
宮崎大学工学部紀要 50 51 - 54 2021年9月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：宮崎大学工学部
To obtain important information for fabricating atomic-scale Au thin films that are used for biosensors, we have examined the flushing temperature for forming the Si(111) clean surface and observed the morphology of Au particles adsorbed by Pulsed Laser Deposition method on a Si(111)-7×7 surface by STM, which is supposed to be the initial stage of Au atomistic thin film formation. As the result of this study, it was found that flushing temperature must be controlled within 5℃ and we can fix the flushing requirement by STM images. Besides, we have estimated that Au particles are adsorbed on the position which is about 0.21 ± 0.03 nm away from the center of Si adatom.
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ファイバーブラック回折格子 (FBG) センサーの高精度化
亀山晃弘，甲藤正人，横谷篤至
レーザー学会第555回研究会報告 「フォトニクス・ワークショップ in 九州」 ( No. RTM-21 ) 7 - 11 2021年9月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（研究会，シンポジウム資料等）
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真空紫外・極端紫外光を用いた光脱離質量分析装置の開発 招待あり 査読あり
横谷篤至, 亀山晃弘, 加来昌典, 甲藤正人
レーザ加工学会誌 27 ( 3 ) 131 - 136 2020年10月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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フェムト秒レーザーによるSi表面の相変化
甲藤正人，横谷篤至，加来昌典，大久保友雅，塚本雅裕
レーザー学会第546回研究会報告「フォトニクス・ワークショップ in 九州」 ( No. RTM-20-06〜11 ) 1 - 6 2020年9月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（研究会，シンポジウム資料等）
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フェムト秒レーザーによるSi表面の相変化
甲藤 正人
レーザー学会第546回研究会報告 No. RTM-20-06～11 1 - 6 2020年
掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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フェムト秒レーザーのダブルパルス照射によるシリコン加工の初期過程
亀山晃弘、高田大河、甲藤正人、横谷篤至
レーザー学会第537回研究会報告「次世代レーザー加工」 ( No. RTM-19-29〜34 ) 25 - 30 2019年11月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（研究会，シンポジウム資料等）
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紫外・真空紫外光を用いたマテリアルプロセッシング
亀山晃弘、高田大河、甲藤正人、横谷篤至
レーザー学会第536回研究会 「フォトニクス・ワークショップ in 九州」 ( No. RTM-19-22〜28 ) 37 - 42 2019年9月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（研究会，シンポジウム資料等）
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宮崎大学における「組織」対「組織」の産学官金連携活動 招待あり
甲藤正人
産学官連携ジャーナル 14 ( 12 ) 8 - 10 2018年12月
担当区分：筆頭著者, 責任著者 記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（その他学術会議資料等）